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第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用

有 1097 人瀏覽 日期:2023-08-07?? 來(lái)源:互聯(lián)網(wǎng)?? 進(jìn)入發(fā)布者【sicmosfet商鋪 放大字體??縮小字體

文章摘要:基本半導體第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用傳統的直流充電樁拓撲電路一般是三相交流380V輸入電壓經(jīng)過(guò)PFC維也

 基本半導體第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用
 
傳統的直流充電樁拓撲電路一般是三相交流380V輸入電壓經(jīng)過(guò)PFC維也納 AC/DC電路后,得到直流母線(xiàn)電壓,然后經(jīng)過(guò)兩路全橋LLC DC/DC電路,輸出 200V到1000V高壓給新能源汽車(chē)充電使用。其中PFC維也納電路AC/DC的開(kāi)關(guān)頻率 40kHz 左右,一般用使用 650V的超結MOSFET或者 650V 的IGBT,劣勢是器件多,硬件設計復雜,效率低,失效率高。新一代直流充電樁拓撲電路會(huì )把原來(lái)的PFC維也納整流升級為采用第二代SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的三相全橋PFC整流。這樣將大大減少功率器件數量,簡(jiǎn)化控制電路的復雜性,同時(shí)通過(guò)提高開(kāi)關(guān)頻率來(lái)降低電感的感量,尺寸和成本。DC/DC全橋LLC部分,升級為采用第二代SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的DC/DC電路,可以從原來(lái)的三電平優(yōu)化為兩電平LLC。這樣可以極大簡(jiǎn)化拓撲電路,減少元器件的數量,控制和驅動(dòng)更加簡(jiǎn)單?;诘诙鶶iC碳化硅MOSFET B2M040120Z的高頻特性,可以提高LLC電路的開(kāi)關(guān)頻率,從而減少磁性器件的尺寸和成本。由于LLC電路是軟開(kāi)關(guān)工作模式,損耗集中在開(kāi)關(guān)管的導通損耗上,由于拓撲結構的原因,流過(guò)LLC中SiC碳化硅MOSFET的電流有效值是Si MOSFET電流的一半,所以最終導通損耗大大減小。新一代采用SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的直流充電樁拓撲電路可以提升0.3~0.5%左右的效率。
  
碳化硅MOSFET具有(94)的高頻、高壓、高溫性能,是目前電力電子領(lǐng)域最受關(guān)注的寬禁帶功率半導體器件。在電力電子系統中應用碳化硅MOSFET器件替代傳統硅IGBT器件,可提高功率回路開(kāi)關(guān)頻率,提升系統效率及功率密度,降低系統綜合成本。
 
基本半導體第二代碳化硅MOSFET系列新品基于6英寸晶圓平臺進(jìn)行開(kāi)發(fā),比上一代產(chǎn)品在比導通電阻、開(kāi)關(guān)損耗以及可靠性等方面表現更為出色。在原有TO-247-3、TO-247-4封裝的產(chǎn)品基礎上,基本半導體還推出了帶有輔助源極的TO-247-4-PLUS、TO-263-7及SOT-227封裝的碳化硅MOSFET器件,以更好地滿(mǎn)足客戶(hù)需求。
 
基本半導體第二代碳化硅MOSFET亮點(diǎn)
更低比導通電阻:第二代碳化硅MOSFET通過(guò)綜合優(yōu)化芯片設計方案,比導通電阻降低約40%,產(chǎn)品性能顯著(zhù)提升。
 
更低器件開(kāi)關(guān)損耗:第二代碳化硅MOSFET器件Qg降低了約60%,開(kāi)關(guān)損耗降低了約30%。反向傳輸電容Crss降低,提高器件的抗干擾能力,降低器件在串擾行為下誤導通的風(fēng)險。
 
更高可靠性:第二代碳化硅MOSFET通過(guò)更高標準的HTGB、HTRB和H3TRB可靠性考核,產(chǎn)品可靠性表現出色。
 
更高工作結溫:第二代碳化硅MOSFET工作結溫達到175°C,提高器件高溫工作能力。
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